《离子束沉积薄膜技术及应用》

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图书简介

本书系统地介绍先进离子束沉积（IBD）薄膜技术及应用。包括IBD薄膜技术基础、离子束溅射沉积（IBSD）薄膜技术研究及应用、双离子束溅射沉积（DIBSD）薄膜和薄膜改性方法、离子束反应溅射沉积（IBRSD）薄膜方法、离子束轰击生长薄膜效应及离子束辅助沉积（IBAD）薄膜方法等内容。 本书总结了作者多年来在该技术领域的研究成果，取材新颖，理论联系实际。书中提供了丰富的研究方法及范例，对普及和推广离子束沉积薄膜技术具有重要知道意义。 该书可供从事近代薄膜科学技术与材料研究人员和工艺师等阅读，也可供理工科大专院校有关

图书目录

第一章?离子束沉积（IBD）薄膜原理 1.1?离子束的输运及非热平衡沉积薄膜过程 1.1.1?运行离子的碰撞现象 1.1.2?非热平衡条件下的IBSD薄膜原理 1.2?离子束溅射粒子的基本性质 1.2.1?溅射原子通量的构成 1.2.2?溅射原子通量的分布 1.2.3?溅射合金成分原子通量的分布 1.2.4?溅射原子能量的分布 1.2.5?合金的溅射特性 1.2.6?超薄薄膜的生长 1.2.7?氧化物的溅射特点 1.3?惰性气体离子的气种效应 1.3.1?薄膜质量厚度分析及晶格膨胀现象 1.3.2?薄膜中掺气的气种效应 1.3.3?气种效应改变薄膜性抽的典型实例 1.4?离子束轰击固体表面